下面小編給大家介紹一下真空等離子清洗機的工作原理，由于等離子體中存在電子、離子、自由基等活性粒子，所以它本身就能與固體表面層產(chǎn)生反應。在真空等離子體清洗過程中，主要依靠活性微粒的“附著作用”來達到去除物體表層污漬的目的。從反應機制來看，等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子體狀態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表層；被吸附基團與固體表層分子反應產(chǎn)生產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子分析形成氣相；反應殘留物與表層分離。真空等離子體清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型，可以處理金屬、半導體、氧化物、聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烯、環(huán)氧甚至聚四氟乙烯等多種高分子材料，可以實現(xiàn)整體、局部和復雜結構的清洗。真空等離子清洗還具有以下特點:易于采用數(shù)控技術，自動化程度高；具有高精度控制裝置，時間控制精度高；正確的等離子清洗不會在表面層產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；因為是在真空中進行的，所以不會污染環(huán)境，保證清洗表面層不會被二次污染。

與濕法清洗相比，等真空離子清洗的優(yōu)點表現(xiàn)在以下七個方面：

     1.等離子清洗后，被清洗的物體已經(jīng)非常干燥，無需干燥即可送到下一道工序。

     2.不使用ODS有害溶劑，清洗后不產(chǎn)生有害污染物，是一種環(huán)保的綠色清洗方法。

     3.無線電波范圍內(nèi)高頻產(chǎn)生的等離子體不同于激光等直射光，方向性不強。因此，它可以深入物體的微孔和凹陷的內(nèi)部，完成清潔任務。因此，沒有必要過多考慮被清潔物體形狀的影響，這些難以清潔的部分的清潔效果與氟里昂相似甚至更好。

     4.整個清潔過程可以在幾分鐘內(nèi)完成，因此具有高效率的特點。

等離子清洗所需真空度約為100Pa，在工廠實際生產(chǎn)中易于實現(xiàn)。這種裝置的設備成本不高，加上清洗過程不需要使用價格昂貴的有機溶劑，因此它的運行成本要低于傳統(tǒng)的清洗工藝。

     5、無需運輸、運輸、貯藏、排放等處理措施，生產(chǎn)現(xiàn)場容易保持清潔衛(wèi)生。

     6、等離子清洗的最大技術特點是不分處理對象，可以處理不同的基材，金屬、半導體、氧化物、高分子材料(例如聚丙烯、聚氯乙烯、四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高分子材料)等等離子材料可以很好地處理而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗。

     7、在清除污垢的同時，還可以改變材料本身的表層性能，如提高表層的潤性能，改善膜的附著力等，在很多應用領域中非常重要。