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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

等離子清洗技術(shù)究竟怎么利用等離子體清洗的?


       等離子體中存在以下物質(zhì)。高速運(yùn)動(dòng)的電子;激活的中性原子、分子、原子團(tuán)(自由基);離子原子和分子;分子分離反應(yīng)過(guò)程中產(chǎn)生的紫外線;未反應(yīng)的分子、原子等。但物質(zhì)仍然保持電中性。
      除氣體分子、離子和電子外,在其體內(nèi)還存在電中性原子或原子團(tuán),它們受能量的激發(fā)狀態(tài)所激發(fā)而形成自由基,并由它發(fā)出光,其中,波的長(zhǎng)度、能量的高低在它與物質(zhì)表面相互作用時(shí)起著重要作用。由于這些自由基是電重型的,壽命長(zhǎng),離子體的數(shù)量比離子多,自由基在等離子體中起著重要的作用,自由基的作用主要表現(xiàn)在化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中能量傳遞的“活化”作用,激發(fā)狀態(tài)的自由基具有高能量,因此容易與物體表面分子結(jié)合形成新的自由基,新形成的自由基也處于不穩(wěn)定的高能量狀態(tài),發(fā)生分解反應(yīng)的可能性高,成為小分子的同時(shí)產(chǎn)生新的自由基另外,在自由基與物體表面分子結(jié)合的同時(shí),釋放出大量的結(jié)合能量,這種能量引起了新的表面反應(yīng)推進(jìn)力,從而消除了物體表面的物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。
       

      一方面,電子對(duì)物體表面的沖擊可以促進(jìn)對(duì)物體表面吸附的氣體分子的分解和解除,另一方面,大量的電子沖擊有利于化學(xué)反應(yīng)。因?yàn)殡娮拥馁|(zhì)量非常小,所以比離子的運(yùn)動(dòng)要快得多,所以當(dāng)?shù)入x子體處理時(shí),電子到達(dá)物體表面的時(shí)間比離子早,并且使表面帶負(fù)電,這有利于引起進(jìn)一步的反應(yīng)。
通常指帶正電荷的陽(yáng)離子的作用,陽(yáng)離子有加速?zèng)_向帶負(fù)電荷表面的傾向,在這種情況下,物體表面獲得相當(dāng)大的動(dòng)能,足以去除附著在表面的粒子性物質(zhì),我們稱之為濺射現(xiàn)象,通過(guò)離子的沖擊作用,物體表面的化學(xué)反應(yīng)
      紫外線具有很強(qiáng)的光能,可以斷裂和分解附著在物體表面的物質(zhì)的分子鍵。另外,它還具有很強(qiáng)的滲透性,能穿過(guò)物體表面達(dá)數(shù)微米深。
      綜上所述,可以看出,等離子體清洗是利用等離子體的各種高能物質(zhì)和活化作用,徹底剝離和去除附著在物體表面的污垢。 

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