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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

在線式等離子清洗裝置-對IC封裝性能具有顯著效用

     隨著微電子科技的不斷發(fā)展,處理器芯片的頻率越來越高、功能越來越強(qiáng)、引腳數(shù)量越來越多、芯片特性尺寸越來越小,封裝的尺寸也在不斷變化,為了提高產(chǎn)品性能,在線式等離子清洗裝置也被慢慢普及,那這款設(shè)備是由什么組成,它在產(chǎn)線上又是怎么工作的?
 

       在線式等離子清洗裝置具有成本低、使用方便、維護(hù)成本低、環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)?;嫣幚碇饕敲嫦蚣呻娐稩C封裝生產(chǎn)工藝,取出引線鍵合、倒裝芯片封裝生產(chǎn)工藝,自動將料盒內(nèi)柔性板取出并對其進(jìn)行等離子清洗,去除材料表面污染,無人為干擾。
  既然這款裝置效能那么高,那我們就來詳細(xì)了解一下在線式等離子清洗裝置工藝流程:
  (A)將裝滿柔性板的4個料盒放置在置取料平臺上,推料裝置將前面的料片推出到上下料傳輸系統(tǒng)。
  (B)上下料傳輸系統(tǒng)通過壓輪及皮帶傳輸將料片傳輸?shù)轿锪辖粨Q平臺的高臺上,通過撥料系統(tǒng)對其進(jìn)行定位。
  (C)接好料片的平臺交換到等離子反應(yīng)腔室下方,通過改善系統(tǒng)將真空腔室閉合抽對其進(jìn)行等離子清洗。當(dāng)高臺傳輸?shù)角逑次粫r,低臺傳輸?shù)浇恿衔恢脤ζ溥M(jìn)行第二層的接料。高臺清洗結(jié)束后與低臺交換位置,低臺對其進(jìn)行等離子清洗,高臺到接料位置對其進(jìn)行回料。
  (D)物料交換平臺上的料片由撥料系統(tǒng)撥到上下料傳輸系統(tǒng)上,通過壓輪和皮帶傳回料盒,完成一個流程。推料機(jī)構(gòu)推下一層料片,對其進(jìn)行下一個流程。

  

       在線式等離子清洗裝置正線匹配性研究電子產(chǎn)品向小型化、高能化方向發(fā)展,對集成電路芯片的封裝要求也越來越高,已不能滿足生產(chǎn)需要,進(jìn)而迫切需要新型的等離子清洗設(shè)備,在生產(chǎn)中需要大量使用新型的等離子清洗設(shè)備,并將柔性板小型化、高能化方向發(fā)展。
  本文通過研究設(shè)計在線等離子清洗裝置真空腔和物料輸送中傷卡的有效預(yù)防,實(shí)現(xiàn)了在線等離子清洗設(shè)備的整線匹配,能滿足IC封裝生產(chǎn)工藝的大規(guī)模生產(chǎn)要求,大大提高了封裝的可靠性。
  在線式等離子清洗裝置在技術(shù)推廣集成電路制造過程中,40%的成本用于包裝,因此集成電路包裝已經(jīng)成為全球獨(dú)立的包裝測試行業(yè),與集成電路設(shè)計和集成電路制造共同構(gòu)成集成電路行業(yè)的三大支柱,成為開發(fā)高性能電子系統(tǒng)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)和制約因素。所以,在一定意義上說,正是IC封裝技術(shù)的發(fā)展,推動著電子裝備的不斷升級換代,推動著電子信息技術(shù)高速發(fā)展。
  在線式等離子清洗裝置及生產(chǎn)工藝在IC封裝層面內(nèi)的應(yīng)用越來越廣泛,并以其優(yōu)良的工藝性能促進(jìn)了微電子行業(yè)技術(shù)的快速發(fā)展,伴隨著現(xiàn)代高科技的需要,CRF在線式等離子清洗技術(shù)將不斷發(fā)展技術(shù)水平提高產(chǎn)品性能和拓展更多應(yīng)用領(lǐng)域。

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