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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

怎么選擇真空crf等離子設(shè)備氣路和品牌廠家

怎么選擇真空crf等離子設(shè)備氣路和品牌廠家:
一、真空crf等離子設(shè)備氣路的選擇
       常見(jiàn)的真空等離子體清洗機(jī)是兩個(gè)氣體通道,但這并不能滿足所有的處理需求。如果需要更多的反應(yīng)氣體,則應(yīng)適當(dāng)增加氣體通道,這也是根據(jù)客戶的實(shí)際需要選擇幾個(gè)氣體通道。
二、真空crf等離子設(shè)備選擇的品牌
       引進(jìn)的等離子清洗劑產(chǎn)品開(kāi)發(fā)較早,產(chǎn)品比較成熟,但供貨周期長(zhǎng),售后維護(hù)服務(wù)不及時(shí),產(chǎn)品更新?lián)Q代緩慢,在人性化設(shè)計(jì)、自動(dòng)化程度、應(yīng)用擴(kuò)展等方面沒(méi)有及時(shí)更新、升級(jí),而且價(jià)格較高。我國(guó)真空等離子設(shè)備市場(chǎng)正處在快速發(fā)展階段,各廠家的產(chǎn)品質(zhì)量參差不齊,部分廠家缺乏基礎(chǔ)研究與應(yīng)用知識(shí),品牌意識(shí)不強(qiáng),售后服務(wù)不夠重視,一錘子買賣。

等離子設(shè)備

       crf等離子設(shè)備處理部件歸納起來(lái)有兩方面的作用——物理和化學(xué)。物理化學(xué)作用:利用多種活性劑,如等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等,使部件表面的原子或附著材料表面上的原子擊出,使其表面上的原子、原表面上的污漬和雜質(zhì)清除(除)表面原有的污漬和雜質(zhì),與此同時(shí)會(huì)形成刻蝕效應(yīng),使部件表面變“粗糙”,形成許多微細(xì)凹坑,從而使樣品表面出現(xiàn)凹痕。
       真空crf等離子設(shè)備在發(fā)展過(guò)程中,不斷結(jié)合客戶的實(shí)際需要開(kāi)發(fā)出新的功能,從功能上來(lái)分真空等離子清洗機(jī)主要分為手動(dòng)版和自動(dòng)版,手動(dòng)版也叫基礎(chǔ)版,價(jià)格較為便宜,自動(dòng)版相對(duì)于手動(dòng)版功能上增加了設(shè)置清洗時(shí)間、自動(dòng)泄壓、微電腦控制、提供兩路進(jìn)氣(以便在清洗的時(shí)候通入氧氣,所以也有客戶把可以通入氧氣清洗的等離子清洗機(jī)稱為氧等離子清洗機(jī)),泄壓速度可以調(diào)節(jié)(適用于清洗石墨烯或者金屬氧化物粉末),泄壓時(shí)可以提供N2泄壓的接口等,建議客戶在預(yù)算充裕的情況下選擇自動(dòng)版本,后期的使用要方便很多。


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