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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

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誠(chéng)峰crf等離子清洗機(jī)應(yīng)用案例

       誠(chéng)峰Crf等離子清洗機(jī),也叫等離子表面處理機(jī),是1項(xiàng)新的的高新產(chǎn)業(yè)技術(shù),用等離子達(dá)到常規(guī)清洗方法所不能達(dá)到的效果。等離子是有機(jī)物質(zhì)的1態(tài),也稱(chēng)為有機(jī)物的第四態(tài),并不屬于一般固液三態(tài)。給氣體足夠的能量,使它離化為等離子態(tài)。等離子的“活性”成分涵蓋:離子、電子、原子、活性基團(tuán)、核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機(jī)是將這些活性成分用于樣品的表面處理,以實(shí)現(xiàn)清潔、涂層等。

等離子清洗機(jī)

基于等離子清洗機(jī)在各行各業(yè)的廣泛應(yīng)用,小編總結(jié)了等離子清洗機(jī)的八大應(yīng)用解決方案:
1.等離子清洗機(jī)表面清洗解決方案
       在真空等離子腔中,射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能無(wú)序等離子,等離子轟擊被清洗產(chǎn)品表面,達(dá)到清洗的目的。
2.等離子清洗機(jī)表面活化解決方案
       等離子表面處理機(jī)后的物體增強(qiáng)了表面能量、親水性,提高了附著力和附著力。
3.等離子清洗機(jī)表面刻蝕解決方案
       材料表面通過(guò)反應(yīng)氣體等離子選擇性腐蝕,腐蝕材料轉(zhuǎn)化為氣相,由真空泵排出。處理后的材料微觀比表面積增加,親水性好。
4.等離子清洗機(jī)納米涂層解決方案
       等離子處理后,等離子引導(dǎo)聚合形成納米涂層。不同材質(zhì)的表面涂覆,達(dá)到疏水(疏水)、親水性(親水性)、疏油(防油)。
5.等離子清洗機(jī)PBC制造解決方案
       這過(guò)程還涵蓋等離子刻蝕的過(guò)程,即等離子表面處理機(jī)通過(guò)對(duì)物體表面的等離子轟擊來(lái)實(shí)現(xiàn)PBC清除。清洗機(jī)的蝕刻系統(tǒng)去污蝕刻帶走鉆孔中的絕緣物,最終提高產(chǎn)品質(zhì)量。
6.半導(dǎo)體/LED解決方案
       等離子在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用是基于集成電路的各種元器件和連接線(xiàn)非常精細(xì),因此在工藝過(guò)程中容易出現(xiàn)灰塵或有機(jī)物等污染,極易造成晶片損壞,使其短路,為了消除這些工藝過(guò)程中出現(xiàn)的問(wèn)題,在后來(lái)的工藝過(guò)程中引入等離子表面處理設(shè)備進(jìn)行預(yù)處理,利用等離子表面處理機(jī)更好地保護(hù)我們的產(chǎn)品,在不破壞晶圓表面性能的情況下,很好地利用等離子設(shè)備去除表面有機(jī)物和雜質(zhì)等。
       由于污染物的存在,在LED燈注塑過(guò)程中,氣泡形成率較高,造成產(chǎn)品質(zhì)量和壽命較低。所以,在封口過(guò)程中防止氣泡的形成也是人們關(guān)心的問(wèn)題。在經(jīng)過(guò)射頻等離子清洗之后,晶片與襯底更加緊密地結(jié)合在一起,氣泡的形成將大大減少,散熱性和出光率也將明顯提高。清洗機(jī)應(yīng)用于金屬表面去油和清洗。
7.TSP/OLED解決方案
      其中包括清洗機(jī)的清洗功能、TSP方面:對(duì)觸摸屏主要工藝進(jìn)行清洗,提高OCA/OCR、壓層、ACF、AR/AF涂層在工藝上的粘結(jié)/涂層能力,為了消除氣泡/異物,通過(guò)多種大氣壓大氣壓下的應(yīng)用,可將各種玻璃、薄膜均勻的大氣壓等離子放電應(yīng)用于大氣壓下,使表面無(wú)損傷處理。
8.真空等離子噴涂解決方案
       由于真空等離子體具有很高的能量密度,實(shí)際上,所有穩(wěn)定熔融相的粉末材料都能轉(zhuǎn)變成致密的,附著牢固的噴涂層對(duì)噴涂層的質(zhì)量起決定作用。采用真空等離子體噴涂技術(shù),提高現(xiàn)代多功能涂布效率。

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