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CRF plasma 等離子清洗機

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選擇真空等離子清洗機設備之前應該了解如何去選型

       本文由小編從應用的視角淺析了真空等離子清洗機的選型,通常從物品長寬、抗熱性、清洗的目的是物理反應、化學反應、知名品牌售后服務要素來闡述。真空等離子清洗機技術最大的特點是能夠處理各種高分子材料,如非處理對象,可處理金屬、半導體、氧化物、聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氣乙烷、環(huán)氧甚至聚四氟乙烯等多種高分子材料。

真空等離子清洗機

       真空等離子清洗機采用數控技術,自動化程度高,調節(jié)設備高度精確,氣流量、清洗強度和時間控制精度高,電漿清洗系統(tǒng)在正確操作下,不會在表面產生損傷層,保證物品質量,清洗是在真空環(huán)境下進行的。電漿清洗系統(tǒng)有許多知名品牌和型號,真空等離子清洗機選型是一種適合自己使用的電漿清洗系統(tǒng)尤其重要,下面就真空等離子清洗機的選型做一個簡單的說明。真空等離子清洗機是將物品放入清洗腔內進行清洗,常規(guī)電漿清洗腔尺寸為1L-10L,電漿清洗腔尺寸的參考因素是電漿清洗物品的尺寸,一般建議真空等離子清洗機腔空間要留出更多的冗余,比如電漿清洗的電漿已經可以放入清洗,一是為了以后有更大的電漿清洗,二是真空等離子清洗機效果更好。
       物品抗熱性:真空等離子清洗機在儀器運行時,腔內溫度隨清洗時間的增加而逐漸升高。例如,VP-.S系列不銹鋼腔等離子清洗系統(tǒng)運行180秒,清洗室溫度為60/四十℃(標準射頻功率為四十KHz:60℃,射頻功率為13.56兆赫茲:四十℃),/VP-Q系列應時腔等離子清洗系統(tǒng)運行180秒,清洗室溫度為四十℃,物品不耐熱時,應選型13.56兆赫茲的射頻功率或CRF系列。
       真空等離子清洗機的清洗目的是物理反應還是化學反應,物體的清洗目的是考慮物理作用還是化學作用,這與選擇等離子體的射頻激發(fā)工作頻率有較大聯(lián)系,較常用的等離子體清洗系統(tǒng)有四十kHz、13.56兆赫茲和20兆赫茲3種四十kHz的自閾值電壓約為1000V,13.56兆赫茲的自閾值電壓為250V左右,20兆赫茲的自閾值電壓較低,這3種激發(fā)工作頻率的體系不太一樣,四十kHz的自閾值電壓大約是物理反應,1356兆赫茲的自閾值電壓大約是物理反應,20兆赫茲的自閾值電壓約是化學反應,而半導體等材料大多采用物理反應,約1356兆赫茲。
       真空等離子清洗機選型可靠的知名品牌:進口等離子清洗設備發(fā)展較早,設備成熟,但供應時間長,售后維護服務不及時,產品升級緩慢,價格較高。國內等離子清洗還處于發(fā)展階段,各廠家產品的質量參差不齊。有些廠家缺乏基礎研究和應用知識,品牌意識不強,不重視售后服務,一錘定音。精密儀器等離子清洗系統(tǒng)得到我國3項專利權,產品的質量平穩(wěn)。建議用戶結合預算和實驗需求選型合適的知名品牌和型號,確保等離子清洗系統(tǒng)長期正常使用,達到最佳使用效果。

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