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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

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電漿清洗機(jī)中的等離子體可以進(jìn)行物理和化學(xué)反應(yīng)

       電漿清洗機(jī)的清潔分類(lèi),作為技術(shù)類(lèi)的文章我們請(qǐng)到了CRF電漿清洗機(jī)工程師盧工老師,給網(wǎng)友們分享清潔的分類(lèi),小編現(xiàn)在總結(jié)下來(lái)分享到網(wǎng)站上,希望能幫助大家對(duì)電漿清洗機(jī)的處理分類(lèi)有一定了解!等離子體與固體表層的化學(xué)反應(yīng)可分為物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)。物理反應(yīng)機(jī)制是活性顆粒轟擊待清潔表層,使污物脫離表層,從而被真空泵吸走;化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性顆粒和污物化學(xué)反應(yīng)形成揮發(fā)性物質(zhì),然后由真空泵吸走揮發(fā)性物質(zhì)。

電漿清洗機(jī)

(1)物理反應(yīng)
以物理反應(yīng)為中心的等離子體清潔,也稱(chēng)為濺射浸蝕(SPE)或離子銑削(IM),其特點(diǎn)是自身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng),清潔表層不留金屬氧化物,能夠維持被清潔物的化學(xué)純凈性,浸蝕作用各向異性的缺陷是對(duì)表層造成很大的損傷,形成很大的熱效應(yīng)
(2)化學(xué)反應(yīng)
化學(xué)等離子體清潔方式具有清潔速度快、選擇性好、消除有機(jī)物等特點(diǎn),缺陷是會(huì)在表層形成金屬氧化物。與物理反應(yīng)相比,化學(xué)反應(yīng)的缺陷難以克服。而且兩種化學(xué)反應(yīng)機(jī)制對(duì)表層微觀形貌的影響差異很大。
物理化學(xué)作用能使表層在分子水平上更粗糙,進(jìn)而改變表層的力。此外1種等離子體清潔在離子體表面反應(yīng)機(jī)理中起著重要作用,即化學(xué)反應(yīng)離子體浸蝕和化學(xué)反應(yīng)離子束浸蝕,兩種清潔相輔相成,離子轟擊破壞被清潔的表層,削弱化學(xué)鍵,形成原子狀態(tài),易于吸收化學(xué)反應(yīng)劑,離子碰撞使清潔物加熱。
      電漿清洗機(jī)的潔凈分級(jí),在物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)等方面各有優(yōu)劣,但它們的應(yīng)用也各有不同,但一般的物理清洗都是用AR電漿清洗機(jī)體清洗,氬自身便是稀有氣體,等離子體的AR便是AR?;瘜W(xué)清洗一般采用氧氣等離子體清潔,讓物體表層發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成形成CO2、CO和水等易揮發(fā)物,進(jìn)而消除表層的污物。以達(dá)到清潔的目的!


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