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20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家
20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家
等離子體發(fā)生器工藝在半導體晶圓上應用越來越普遍: 在半導體生產(chǎn)過程中,幾乎每個過程都需要清洗,圓形清洗質(zhì)量對設(shè)備性能有嚴重影響。正是因為圓形清洗是半導體制造過程中一個重要而頻...
發(fā)布時間:2022-12-17雙基片結(jié)構(gòu)下的射頻電漿清洗機: 使用園柱諧振腔式MPCVD裝置能通過增強沉積壓力來提升等離子體密度,在基片臺上實現(xiàn)金剛石膜的快速生長。改變石英管位置、腔體結(jié)構(gòu)、調(diào)諧板靈活程度等方式...
發(fā)布時間:2022-12-14plasma設(shè)備常說的基本要素跟哪些方面息息相關(guān): 在原材料的表面處理過程中,plasma設(shè)備主要有以下基本要素:明顯增強侵潤性,從而形成活性表面;清潔灰塵和油污,細致清潔和除靜電;提供...
發(fā)布時間:2022-12-12crf電漿清洗機活化后對表面是否可達到均勻性: crf電漿清洗機一次清洗范圍大,可設(shè)計成不規(guī)則形狀,非常適合用于材料表面改性。經(jīng)過電漿清洗機表面處理,原材料的表面存在很多物理、化學...
發(fā)布時間:2022-12-08行業(yè)中清洗工藝常講的粘結(jié)性、相容性和去除臟污往往跟真空等離子清洗機有關(guān):一、crf真空等離子清洗機增加材料之間的粘結(jié)性 許多聚合物材料,如聚合物膜和纖維,很難被溶劑濕潤,附著力低...
發(fā)布時間:2022-12-07在
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