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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

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旋轉(zhuǎn)等離子噴槍

CRF-APO-RP1020-D

可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;

設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動,節(jié)省客戶使用空間;

可ln-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;

使用壽命長,保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;

13632675935

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設(shè)備詳細(xì)數(shù)據(jù)

名稱 噴射型AP等離子處理系統(tǒng)
等離子電源型號 CRF-APO-RP1020-D
旋轉(zhuǎn)噴式等離子噴槍型號 旋噴式:RXXOption:20mm-80mm
電源 220V/AC,50/60Hz
功率 600-1000W/25KHz(Option
功率因素 0.98
處理高度 5-15mm
處理寬幅 旋噴式:20-80mmOption
內(nèi)部控制模式
數(shù)字控制
外部控制模式
RS485/RS232、模擬通訊口、 啟停I/O
工作氣體
Compressed Air (0.4mpa)/N2(0.2mpa)
電源重量
10kg

使用等離子體表面處理電子元器件與芯片使其更精細(xì)清潔
電子元器件、汽車零部件等工業(yè)元件在生產(chǎn)過程中由于交叉污染、自然氧化、焊劑等,表面會形成各種污物,這些污染物會影響元件在后續(xù)生產(chǎn)中的焊接、粘接等相關(guān)工藝質(zhì)量,降低成品可靠性和合格率。等離子體體處理通過化學(xué)或物理作用對工件表面進(jìn)行處理,反應(yīng)氣體電離產(chǎn)生高活性反應(yīng)離子,與表面污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行清潔。需要根據(jù)污染物的化學(xué)成分對反應(yīng)氣體進(jìn)行選擇。以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗速度快,選擇性好,對有機(jī)污染物清洗效果較好。表面反應(yīng)以物理作用為主的等離子體清洗很常用的是采用氬氣,不會產(chǎn)生氧化副產(chǎn)物,刻蝕作用各向異性。一般情況下等離子體表面改性過程中,化學(xué)反應(yīng)和物理作用是共同存在的,從而得到較好的選擇性、均勻性和方向性。
由于工業(yè)領(lǐng)域精密化、微小化的發(fā)展方向,等離子體表面改性技術(shù)以其精細(xì)清潔、無損改性的優(yōu)勢在半導(dǎo)體行業(yè)、芯片產(chǎn)業(yè)、航空航天等高新技術(shù)行業(yè)也會有越來越重要的應(yīng)用價值。半導(dǎo)體封裝行業(yè),包括集成電路、分立器件、傳感器和光電子的封裝,通常會用到銅材質(zhì)的引線框架,為了提高鍵合和封塑的可靠性,一般會把銅支架經(jīng)過幾分鐘的等離子清洗機(jī)處理,來清除表面的有機(jī)物、污染物,增加其表面的可焊性和粘接性。

旋轉(zhuǎn)等離子噴槍

深圳誠峰智造等離子清洗機(jī)

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    認(rèn)真對待每一次設(shè)備試驗

  • 嚴(yán)格的質(zhì)量控制

    設(shè)備出廠前連續(xù)24小時運行調(diào)試

  • 完善的服務(wù)體系

    集研發(fā)、制造、銷售以及售后服務(wù)為一體的等離子設(shè)備高新技術(shù)企業(yè)

  • 服務(wù)行業(yè)領(lǐng)域廣泛

    專注等離子研發(fā)20年,服務(wù)多種行業(yè)

  • 可特殊定制設(shè)備

    完全按照客戶需求制作設(shè)備

多項專利證書,廠家實力認(rèn)證

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