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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

3種常見的plasma設(shè)備根據(jù)其不同的結(jié)構(gòu)做不同的說明

3種常見的plasma設(shè)備根據(jù)其不同的結(jié)構(gòu)做不同的說明:
       諸多工業(yè)和實(shí)驗(yàn)領(lǐng)域都有使用plasma設(shè)備表面處理機(jī),對(duì)于剛剛接觸這個(gè)東西的人來說,總是不了解不知道常見的等離子表面處理機(jī)的具體型號(hào)。業(yè)內(nèi)常所說的常壓大氣型設(shè)備和中低壓真空型設(shè)備實(shí)際上就是要根據(jù)等離子體放電時(shí)形成高壓等離子體放電的大氣環(huán)境性質(zhì)來做區(qū)分的,簡(jiǎn)單來說:前者是在大氣環(huán)境下進(jìn)行放電和處理的,后者是在密閉真空的環(huán)境下進(jìn)行放電和表面處理。今天主要給大家介紹一下常見的等離子表面處理機(jī)種類。

plasma設(shè)備

1.常壓型的DBD準(zhǔn)輝光低溫plasma設(shè)備
      常壓型的DBD準(zhǔn)輝光低溫等離子設(shè)備-誠(chéng)峰智造等離子清洗機(jī)
大氣DBD準(zhǔn)輝光是一種介質(zhì)阻擋放電形式,一般借助傳送帶將工件勻速通過等離子體區(qū),在形狀規(guī)則的薄膜類產(chǎn)品以及PET和PVC材料居多。
2.常壓型的射流直噴plasma設(shè)備
       常壓型的射流直噴等離子設(shè)備-普樂斯等離子清洗機(jī)
射流型的等離子設(shè)備都是通過將氣源提供氣體,通入到噴槍內(nèi)部的氣流通道,由兩端電極放電形成等離子體,再在氣流的不斷帶動(dòng)下,對(duì)工件表面進(jìn)行處理。根據(jù)噴槍是否旋轉(zhuǎn)、噴槍個(gè)數(shù)以及是否與自動(dòng)化接合,又有直噴式、旋轉(zhuǎn)式、多噴槍式、在線式、獨(dú)立式等細(xì)分的類型。此外,還有Arc電弧放電形式,因其穩(wěn)定性局限以及使用并不多,這里就不多介紹了。
3.低壓真空型plasma設(shè)備
       低壓真空型的設(shè)備氣體的分離處理工藝全程工作都是在一個(gè)高度密閉均勻的高壓腔體范圍內(nèi)循環(huán)進(jìn)行,通過低壓真空泵可以形成低真空環(huán)境,腔體內(nèi)分子的相對(duì)壓力大小會(huì)因此逐漸變的小,分子間壓力的相對(duì)間隔將漸漸地變的大,分子間受到的相互作用力會(huì)越來越變小,通過低壓高頻電源所產(chǎn)生出的低頻高壓脈沖交變電場(chǎng)還可以迅速將分離工藝氣體震蕩激發(fā)成一個(gè)具有極高化學(xué)反應(yīng)力活性氣體或超高能量密度的高壓等離子體,然后清除與工藝材料表面產(chǎn)生的一切有機(jī)污染物質(zhì)及各種微顆粒污染物反應(yīng)生成或彼此碰撞后形成各種揮發(fā)性物質(zhì),然后再由離心真空泵過濾將所有這些有害揮發(fā)性物質(zhì)一一排除去,從而能達(dá)到表面的清潔、活化功能等保護(hù)目的。


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