CRF電暈等離子處理機(jī)歷史發(fā)展進(jìn)程：
       等離子體于1879年被發(fā)現(xiàn)，1928年被稱(chēng)為“plasma”，是一個(gè)微觀(guān)系統(tǒng)，由大量相互作用但仍然處于非束縛狀態(tài)的帶電粒子組成，它們是除氣態(tài)、液態(tài)和固態(tài)以外的物質(zhì)第四態(tài)。利用電子溫度和離子溫度可以分別表示等離子體溫度，CRF電暈等離子處理機(jī)的電離率較低，離子溫度甚至可以與室溫相相差無(wú)幾，因此，日常生活中有很多場(chǎng)景可以運(yùn)用低溫等離子體技術(shù)。在CRF電暈等離子處理機(jī)發(fā)生的過(guò)程中也可以產(chǎn)生大量的活性粒子，這些粒子比一般化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生的反應(yīng)種類(lèi)更多，活性更強(qiáng)，與材料表面接觸時(shí)反應(yīng)更簡(jiǎn)單。與傳統(tǒng)式的物理和化學(xué)方式相較，等離子體表面處理低成本，不容易產(chǎn)生廢料，對(duì)環(huán)境無(wú)污染，因此低溫等離子體材料的表面改性處理非常合適，此外，電暈等離子處理機(jī)還可用于制備有機(jī)和無(wú)機(jī)納米顆粒，用于殺菌等領(lǐng)域。

       CRF電暈等離子處理機(jī)的產(chǎn)生，能夠通過(guò)紫外輻射、電磁場(chǎng)激發(fā)、高溫加熱以及應(yīng)用X射線(xiàn)等方式，其間，電磁場(chǎng)激發(fā)方式，也就是技術(shù)較為簡(jiǎn)單的操縱氣體釋放方式，在實(shí)驗(yàn)室研究和工業(yè)生產(chǎn)中使用得多?；」夥烹娛歉鞣N氣體放電產(chǎn)生的等離子體中的一種；電暈放電產(chǎn)生的低溫等離子體中難以產(chǎn)生足量的活性粒子；直流輝光放電需要低壓環(huán)境，因此需要使用價(jià)格昂貴的真空系統(tǒng)，從而難以實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)；低頻交流放電等離子體的電極暴露在外，只對(duì)簡(jiǎn)單污染產(chǎn)生的等離子體進(jìn)行污染，因此這些氣體放電方式都不適合用于大型流水線(xiàn)工業(yè)。